사업분야
차별화된 기술력과 창조적인 사고 더 큰 도약을 위한 도전은 계속됩니다.
펠리클사업부
펠리클 Overview
- 제품개요
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FST의 펠리클사업부는 반도체 (IC) 및 FPD (Flat Panel Display) 제조 공정에서 사용되는 펠리클(Pellicle)을 개발·생산하고 있습니다. 펠리클은 노광 공정 시 포토마스크 표면에 이물이나 파티클이 직접 접촉되는 것을 방지하여, 마스크의 오염을 최소화하고 생산 수율 및 공정 신뢰성을 향상시키는 핵심 부품입니다.
FST는 다양한 노광 파장대에 대응하는 펠리클 제품군을 보유하고 있으며, 소재 기술, 박막 코팅, 프레임 접합, 청정도 제어 등 전 공정에 걸친 독자적인 기술 역량을 기반으로 고객 맞춤형 솔루션을 제공합니다.
- 사용목적
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- 포토마스크의 오염 방지 및 보호
- 반도체 제품 수율 향상
- 포토마스크 세정 주기 및 사용 수명 연장
- 반복 사용 시 발생 가능한 오염원으로부터의 격리
- 작용원리
- Pellicle Structure
작용원리
- 작용원리
- Pellicle Structure
- Pellicle Structure
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- Pellicle Membrane
고투과율, 고강도, 열안정성을 갖춘 박막으로, 노광 파장에 따라 최적화된 소재를 적용 - Frame
펠리클 Membrane을 지지하고 포토마스크에 장착되는 구조물로, 열팽창 계수 및 기계적 강성이 최적화됨 - Membrane Adhesive
Membrane과 프레임을 안정적으로 접합하며, 고온 및 진공 환경에서도 접착력을 유지함 - Mask Adhesive
일부 사양에서 탈착이 용이하도록 적용
- Pellicle Membrane
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